首 页  新闻资讯  集团概况  主要产品  项目合作  投资企业  人力资源  企业文化  KMS系统登陆
KMS系统登陆
用户名:
密  码:
新闻中心
 业内资讯 => 打印此页】 【返回
应用材料公司深耕中国市场 推动平板显示技术发展

发布日期:[2014-4-3]    共阅[1712]次
    
  回顾国内平板显示行业的10年发展,无论是此前CRT、PDP与LCD之争,还是现在新
型显示技术OLED与液晶技术之争,我们都可以看到新技术正逐渐涌现。"显示器行业正
处在技术变革和需求变革的时代。"应用材料公司平板显示CVD产品事业部总经理肖劲松
这样讲道。
  其实我们在各大重量级的展会上,如美国的CES,德国的IFA等等都可以感受到显示
技术发展之迅速。而2014年CES展会上曲面、4k、OLED成为关注的焦点。当1080P正在逐
渐走向主流时,4K显示时代又悄然来临,与此同时8K显示又跃跃欲试。这些现象归结在
于人们对更高视觉体验的追求一直没有停歇,我们正在迎接一个高解析度显示时代。为
应对全新的技术挑战,客观上需要面板厂商与上游设备和材料供应商紧密合作。
  应用材料公司作为全球最大的半导体设备及服务供应商,同时在显示器领域不断开
发新技术,推动显示技术走向未来。由于在平面显示器制造电浆强化化学气相沉积
(PECVD)技术领域的突出贡献,应用材料荣获了2013年度IEEE企业创新奖。IEEE是全球
最大的专业协会,以促进人类科技跃进为宗旨。3月20日,应用材料公司平板显示CVD产
品事业部总经理肖劲松以及PVD产品事业部研发总监MarcusBender博士为我们分享了应
用材料公司在高解析度显示时代的TFT和TFE解决方案。
  一、金属氧化物TFT解决方案
  金属氧化物对于设备稳定性及显示色差(Mura)要求比较高,同时金属氧化物主要
应用在高清晰度的移动设备和OLEDTV上面,对于颗粒度要求更高,需要通过颗粒度的控
制来提高良品率。
  应用材料公司的CVD采用双层膜结构,在传统氮化硅基础上采用二氧化硅膜层。二
氧化硅含氢量比较低,这样就能达到很好的均匀性。而在PVD方面通过提升IGZO的膜厚
以及均匀性,同时采用地颗粒度的系统设计,来避免金属氧化物色差(Mura)的产生。
正是基于在CVD及PVD方面的独特工艺与设计,目前全球主要的厂商都采用应用材料公司
的设备。
  具体来讲,CVD采用空心阴极梯度递减技术(HCG),在大面积玻璃表面形成均匀的
等离子体,保证大规模化学沉积的均匀性。另外采用自上而下的RPSC工艺(远程等等离
子体清洗),提升均匀性。通过这些设计,可以达到第十代的膜厚均匀性。而在PVD方
面,相对于传统工艺来说,采用了旋转阴极的解决方案。旋转靶可以增加气流均匀性,
对于膜层均匀性提升有很大的帮助。同时旋转靶能够使结瘤和再沉积最小化,相对于传
统平面靶在缺陷控制上有很大的提升。
  二、LTPS(低温多晶硅)TFT解决方案
  高分辨率移动显示时代,随着相似体积的减小,OLED和LCD屏幕都需要采用双电容
技术。对于CVD及PVD均匀性和低颗粒度特性都提出了新的要求。应用材料公司是业界唯
一一家能够提供从5.5代、6代到8.5代生产设备解决方案的企业。在PVD均匀性方面,应
用材料公司在2013年为10%到8%,2014年达到5%,2015年将达到3%。
在CVD方面2014年将重点研发锁阀门减震及零冲击狭缝阀技术,来尽可能降低震动带来
的副产物沉积。而在PVD方面,继续优化薄膜均匀性。通过摇摆和SSM(定向对角溅
射)、切角加工实现边缘无膜区、材料分段数等方式来提高薄膜的均匀性。
三、薄膜封装解决方案
  OLED薄膜封装对于更可靠、柔软的阻隔层,减少颗粒,边缘阶梯覆盖及MASK对准精
度提出新的挑战。为此,应用材料公司提出全新的全CVD膜系结构。在薄膜封装过程中
采用氮化硅做阻水层提高阻水性;采用光学对准掩膜板保证出片率;采用并行流程提高
开机率。
  另据应用材料中国区销售经理方甦棣介绍,2013年中国占全市电视机市场的22%,
同时中国智能手机也占全球22%。中国正在成长为全球最大的显示屏生产国以及显示产
业投资国,并且对于新型显示技术的研发和接受度逐渐提升。应用材料公司已在国内市
场深耕30年,具有很好的"本土化"优势,也将与中国客户更加紧密合作,加速新技术导
入与新产品上市。
 
打印此页】 【返回
 

Copyright ©2005-2008 All rights reserved 版权所有 湖南电子信息产业集团有限公司
地址 :中国长沙市高新技术产业开发区麓枫路40号 邮编 :410205
电话 :0731-8998222 传真 :0731-8998200 公司邮箱:omnisun@omnisun.com.cn